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    HM-230多壓力殘余氣體分析儀:復(fù)雜工藝的“在線氣體哨兵”
    2026.06.12
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    在半導(dǎo)體、光伏等高端制造領(lǐng)域,工藝氣體的微小波動(dòng),往往就是良率滑坡的開始。

    針對(duì)復(fù)雜工況下的氣體監(jiān)測(cè)痛點(diǎn),一款專為先進(jìn)制程打造的國(guó)產(chǎn)利器——HM-230多壓力殘余氣體分析儀重磅登場(chǎng)。 

    作為一款集RGA(殘余氣體分析儀)、真空系統(tǒng)及智能進(jìn)樣模塊于一體的在線質(zhì)譜分析設(shè)備,高效適配多壓力復(fù)雜工況,為先進(jìn)制程穩(wěn)定運(yùn)行保駕護(hù)航。

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    九大核心價(jià)值,重新定義在線氣體監(jiān)測(cè)

     
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    1 寬壓適配:突破壓力邊界

    覆蓋1E-8Torr~1.2atm全壓力范圍,提供1-100/200/300amu三種質(zhì)量數(shù)選擇,實(shí)時(shí)精準(zhǔn)監(jiān)測(cè)H?、He、N?、O?、Ar等關(guān)鍵氣體成分,穩(wěn)定適配各類復(fù)雜工藝。

    2 在線分析:實(shí)時(shí)預(yù)警風(fēng)險(xiǎn)

    毫秒級(jí)響應(yīng)速度,實(shí)時(shí)追蹤工藝氣體組分變化,一旦發(fā)現(xiàn)異常波動(dòng)立即報(bào)警,提前鎖定污染與工藝偏移風(fēng)險(xiǎn),避免批量不良品產(chǎn)生。

    3 一體集成:即接即測(cè)快速落地

    將RGA、真空系統(tǒng)、進(jìn)樣模塊高度集成,無(wú)需額外搭建復(fù)雜真空系統(tǒng),直接對(duì)接產(chǎn)線,大幅縮短項(xiàng)目落地周期,降低部署成本。

    4 抗污設(shè)計(jì):長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行

    采用抗污染涂層+表面鈍化工藝,有效減少工藝沉積物對(duì)核心部件的污染,延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命,保障長(zhǎng)期監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)的穩(wěn)定性與一致性。

    5 雙模檢測(cè):兼顧精度與范圍

    FC/EM雙檢測(cè)器協(xié)同工作,既滿足痕量氣體的高靈敏度檢測(cè),又能應(yīng)對(duì)高濃度組分的寬動(dòng)態(tài)范圍分析,復(fù)雜氣體成分也能精準(zhǔn)定性定量。

    6 智能分析:降低人工依賴

    內(nèi)置自動(dòng)分析算法,實(shí)現(xiàn)氣體組分的自動(dòng)定性定量、異常自動(dòng)報(bào)警,降低操作門檻與人工成本。

    7 高效集成:對(duì)接智能工廠

    支持API接口與數(shù)據(jù)上傳功能,可快速對(duì)接MES系統(tǒng)及設(shè)備控制系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)工藝數(shù)據(jù)的互聯(lián)互通,助力智能工廠的數(shù)字化管控。

    8 廣泛兼容:覆蓋先進(jìn)制程

    適配CVD、PVD、ALD、刻蝕、真空鍍膜等多種高端制造工藝,一臺(tái)設(shè)備即可滿足多制程的氣體監(jiān)測(cè)需求,適配不同客戶的多樣化場(chǎng)景。

    9 核心自研:交期短,供應(yīng)穩(wěn)

    核心部件100%自主研發(fā),交付周期更短,本土團(tuán)隊(duì)提供快速響應(yīng)服務(wù),全方位保障供應(yīng)鏈安全,護(hù)航客戶穩(wěn)定量產(chǎn)。

     

    為什么復(fù)雜工藝更需要在線監(jiān)測(cè)?

    因?yàn)樵谙冗M(jìn)制程中,很多關(guān)鍵問(wèn)題,并不會(huì)“突然發(fā)生”。而是:通過(guò)氣體變化,提前釋放信號(hào)。例如:前驅(qū)體比例漂移、副產(chǎn)物異常增加、腔體污染、微泄漏、膜層沉積異?!绻荒軐?shí)時(shí)發(fā)現(xiàn),最終就會(huì)演變成:良率波動(dòng)、批量不良、停機(jī)損失。

    HM-230的價(jià)值,正是在問(wèn)題擴(kuò)大之前,提前發(fā)現(xiàn)問(wèn)題。

     

    典型應(yīng)用場(chǎng)景,賦能先進(jìn)制造


    CVD 化學(xué)氣相沉積:實(shí)時(shí)監(jiān)控前驅(qū)體氣體比例,防止反應(yīng)不均

    PVD 物理氣相沉積:檢測(cè)真空室殘留氣體,降低薄膜缺陷率

    ALD 原子層沉積:精確控制脈沖氣體濃度,提升沉積均勻性

    刻蝕工藝監(jiān)測(cè):快速發(fā)現(xiàn)刻蝕副產(chǎn)物異常,避免過(guò)刻或殘留

    真空鍍膜過(guò)程分析:全程追蹤膜層形成過(guò)程中的氣體變化

    真空泄漏與污染監(jiān)測(cè):即時(shí)發(fā)現(xiàn)微小泄漏點(diǎn),減少停機(jī)排查時(shí)間

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    核心痛點(diǎn)剖析&破局方案

    痛點(diǎn)一:壓力適配難

    傳統(tǒng)RGA僅能覆蓋窄壓力范圍,無(wú)法滿足多制程的多樣化壓力需求。

    破局方案:HM-230搭載寬壓進(jìn)樣技術(shù),1E-8 Torr~1.2 atm全壓力覆蓋,一臺(tái)設(shè)備適配多制程需求。

    痛點(diǎn)二:污染損耗大

    工藝氣體雜質(zhì)易污染檢測(cè)器,縮短壽命,增加維護(hù)成本。

    破局方案:HM-230內(nèi)置采用抗污染設(shè)計(jì),可有效減少核心部件污染,降低維護(hù)頻率,提升設(shè)備利用率。

    痛點(diǎn)三:響應(yīng)速度慢

    離線分析滯后性強(qiáng),無(wú)法實(shí)時(shí)捕捉工藝異常,導(dǎo)致批量良率損失。

    破局方案:HM-230支持實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè),毫秒級(jí)響應(yīng)速度,確保異常提前預(yù)警,讓風(fēng)險(xiǎn)止步于萌芽。

    痛點(diǎn)四:集成成本高

    需要額外搭建真空系統(tǒng)與進(jìn)樣裝置,部署周期長(zhǎng)、成本高。

    破局方案:HM-230采用一體化集成設(shè)計(jì),即接即測(cè)快速部署,降低集成成本與項(xiàng)目周期。

     

    結(jié)語(yǔ)

    HM-230RGA 不只是一個(gè)氣體分析儀器,它更是產(chǎn)線上的全天候氣體哨兵。 

    在良率競(jìng)爭(zhēng)日益激烈的今天,它幫助您提前發(fā)現(xiàn)隱患、減少停機(jī)、優(yōu)化工藝,讓每一次沉積、刻蝕、鍍膜都更可控。

    如果您正在面臨制程氣體監(jiān)測(cè)的痛點(diǎn),或者想了解更多產(chǎn)品細(xì)節(jié),歡迎隨時(shí)咨詢,我們將為您提供定制化的解決方案,助力您的制程更智能、更穩(wěn)定、更高效!

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